《一种氟硅改性聚氨酯光刻胶及其制备方法》

技术简介：

本发明属于光刻胶制备技术领域,具体涉及一种氟硅改性聚氨酯光刻胶及其制备方法。首先将2,5二羟苯基氧化膦与含氟羧酸单体反应得到光引发剂,用于提高光刻胶对紫外光的感光性能和捕获能力。其次将封端聚二甲基硅氧烷、异氰酸酯、含氟扩链剂和含丙烯酸酯封端剂逐步聚合,最后将二者与活性稀释剂混合制备得到氟硅改性聚氨酯光刻胶,可实现其在多波段紫外光发生基团聚合反应。本发明氟硅改性聚氨酯光刻胶具有高灵敏感光性、储存周期长、反应条件温和。主要适用于优良光刻胶制造,芯片生产等行业,制备流程简单环保,利于改善含氟光刻胶的稳定性以及感光性能。

研发人员：李宁;韩铭宇;关裕达;罗镱;蔡海悦;孙晓钰;张晓宇;李锦春;曾芳磊;郭仪