原位同步辐射光电离质谱研究压力对3Mn10Fe-Ni催化剂上N_2O形成途径的影响

   发布时间: 2022-07-09    访问次数: 18

《原位同步辐射光电离质谱研究压力对3Mn10Fe/Ni催化剂上N_2O形成途径的影响》

技术简介:

为了研究N_2O在氨选择性催化还原脱硝(NH_3-SCR)过程中的形成途径及其选择性受压力影响的变化规律,采用原位光电离质谱研究方法结合流动管反应器,3Mn10Fe/Ni催化剂NH_3-SCR反应体系中气相物种进行了原位检测并获得了各组分的质谱图,进一步分析了不同工况、温度和压力条件下N_2O选择性以及NO_xNH_3转化率的变化规律。研究结果表明,N_2O形成主要来源于非选择性催化反应(NSCR)和吸附态NH_3氧化(NSNO)反应,其中,100-250℃NSCR占据生成N_2O的主导地位,250-400℃两种形成途径贡献相当,400-500℃NSNO成为主要来源。此外,低压降低了催化剂在低温区的脱硝活性,却促进了在高温区通过NSNO反应生成N_2O的形成途径。


研发人员:许鸣皋;文武;朱宝忠;杨玖重;潘洋;孙运兰;