《一种MoS-(2)/有机硅共混矩阵膜、制备方法及应用》

技术简介：

本发明属于共混矩阵膜分离技术领域,具体涉及一种MoS-(2)/有机硅共混矩阵膜、制备方法及应用,该方法包括：由有机烷氧基硅烷通过水解聚合法制备有机硅溶胶；将MoS-(2)分散液与有机硅溶胶混合均匀制备MoS-(2)/有机硅分散液；将MoS-(2)/有机硅分散液擦涂在撑体上,煅烧后得到MoS-(2)/有机硅共混矩阵膜。本发明制备的MoS2/有机硅共混矩阵膜具有良好的H-(2)渗透性和选择性,可应用于分离混合气中的氢气。

研发人员：任秀秀;姚政;于欢;钟璟;徐荣;郭猛;吴楠桦