《ZL201710300122.6一种硅片水平生长设备和方法》

奖项类别：中国专利优秀奖

技术简介：

“一种硅片水平生长设备和方法（ZL201710300122.6）”申请日为2017年4月28日，授权公告日为2019年5月7日，该专利产出于“国家自然科学基金重点项目”，目前已获得德国专利授权，本参评专利产品作为样机使用，目的在于通过实验手段来进一步研究水平提拉硅带成型过程，将理论与实验结合，为水平提拉超薄硅片的工艺开发提供优化设计，解决硅片技术中亟待解决的科学和技术问题，为超薄硅片的产业化制造提供了理论基础。

研发人员：丁建宁、袁宁一、徐嘉伟、沈达鹏、徐晓东、孙涛、王书博